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SHAGNHAI ZHIRUI ENVIRONMENT PROJECT co., LTD.?
電子半導體
   過程簡述

        在半導體產(chǎn)品制造過程中，由于生產(chǎn)設備的精密性和生產(chǎn)工藝的復雜性，對其配套設施提出了很高的要求，尤其對作為半導體行業(yè)的超純水系統(tǒng)更是高之又高。半導體行業(yè)超純水制造工藝可以概述為4個部分，分別為預處理部分、RO部分、電去離子部分和拋光混床部分；在有些半導體廠中， 也有用“陰床+陽床”代替電去離子裝置的，主要根據(jù)原水水質和產(chǎn)水水質對弱電解質的要求而定。

       在液晶顯示器的生產(chǎn)過程中要多次涉及到清洗工藝，如所使用的玻璃基板在受入前必須清洗干凈，在濺鍍ITO導電膜之前還需要清洗干凈；除此之外，在涂敷光刻膠等之前都要對玻璃基板進行清洗，將1微米以上的顆粒以及所有的無機、有機污染物清洗干凈，保證工藝達到所需要的精度要求。

       清洗液過濾以去除清洗過程中引入的雜質，達到清洗循環(huán)利用或排放標準；玻璃基板上的污染物，主要來自制造工藝過程以及玻璃基板的搬運、包裝、運輸、儲存過程，主要的污染物有塵埃粒子、纖維紙屑、礦物油和油脂等油垢、氧化硅等無機顆粒、制備加工過程的殘留物、水跡、手指印等。


  問題描述
避免傳統(tǒng)離子再生耗費的大量酸堿，對環(huán)境更友好；
克服傳統(tǒng)離子設備再生周期相對較長；
超濾反洗排水、一級RO濃水排水和CEDI濃水排水及其回收利用措施，利于節(jié)能減排；
節(jié)約水資源及半導體制造單位的運行成本。


電子工藝水流程圖

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